TY  - BOOK
AU  - Plappert, Mathias Karl Heinrich
PY  - 2014
DA  - 2014//
TI  - Untersuchungen an diffusionsstabilen Aluminium-Silizium Barrieren für die Halbleiter in der Leistungselektronik
AB  - Die vorliegende Arbeit untersucht WTi- und WTiN-Diffusionsbarrieren. Die werkstoffphysikalischen Eigenschaften werden in Abhängigkeit des Sputterprozesses umfangreich evaluiert. Dies geschieht sowohl experimentell, theoretisch als auch simulativ. Der Einfluss der Dünnschichtcharakteristika auf die Barrierenstabilität wird mit Hilfe von Beschleunigungstests und analytischen Methoden ermittelt. Die Integration von langzeitstabilen Diffusionsbarrieren auf Leistungshalbleitern ist ein weiterer Bestandteil dieser Arbeit.
UR  - http://rosdok.uni-rostock.de/resolve?urn=urn:nbn:de:gbv:28-diss2014-0184-9
UR  - http://rosdok.uni-rostock.de/resolve?urn=urn:nbn:de:gbv:28-diss2014-0184-9&pdf
UR  - http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:gbv:28-diss2014-0184-9
LA  - German
N1  - vorgelegt von Mathias Karl Heinrich Plappert
ID  - 80681988X
ER  -